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张学良多高,少帅张学良多高 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家知识产权(quán)局局(jú)长申长雨在新闻发布会(huì)上表示,将统筹推进各类(lèi)知识产权法律(lǜ)法规和制(zhì)度规则的制修订工作。其中,修改完(wán)善(shàn)集成电(diàn)路布图(tú)设(shè)计保护条例,适应大规模集成电路(lù)发展需要(yào),助(zhù)力(lì)芯片产业做大做强,服务数字经(jīng)济更好发展。

  加强大(dà)数据、人工智能、基(jī)因技术等新领域(yù)新业态知识产权规则研究,张学良多高,少帅张学良多高助力相关领域创新(xīn)发展。同时(shí),积极(jí)参与知(zhī)识产(chǎn)权国(guó)际规则(zé)制定,更好对接(jiē)高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放。

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